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金融(rong)界(jie) 2025 年 2 月 22 日消息,国(guo)家知识产(chan)权局信息显示,上海新硅聚合半导体有限公(gong)司申请一项名为“一种压电异质衬底、制备方法及半导体器件(jian)”的(de)专利,公(gong)开号 CN 119497563 A,申请日期为 2024 年 10 月。
专利摘(zhai)要显示,本申请公(gong)
开了一种压电异质衬
底、制备方法及半导
体器件(jian),包括衬底层、
介(jie)质层、图形化电极
层和压电薄膜层,介(jie)
质层位于衬底层和压
电薄膜层之间,图形
化电极层位于介(jie)质层内,且图形化电极层的(de)一侧暴露于介(jie)质层
并与压电薄膜层电性连(lian)接;压电薄膜层具有相(xiang)互背离的(de)第一面
和第二(er)面,第一面为用于形成压电薄膜层的(de)压电异质衬底的(de)原
始(shi)暴露面第
面位于压电薄膜层背离衬底层的(de)
侧第二(er)面
是通过对压电晶圆(yuan)衬底背离原始(shi)暴露面的(de)一侧进行薄化处理
后形成的(de)面。本申请采用牺牲保护(hu)结构形成压电薄膜层,在形
成图形化电极层和介(jie)质层之前已完成高温工艺,减小后续制备
过程中热失配带(dai)来的(de)应(ying)力,提升压电异质衬底的(de)形貌精准性、
可靠性、稳定性和耐久(jiu)性。
天眼查资(zi)料(liao)显示,上海新硅聚合半导体有限公(gong)司,成立(li)于2020年,位于上海市(shi),是一家以从事专业(ye)技术服务业(ye)为主的(de)企业(ye)。企业(ye)注(zhu)册资(zi)本37233.3333万人(ren)民(min)币,实缴资(zi)本29000万人(ren)民(min)币。通过天眼查大(da)数据分(fen)析,上海新硅聚合半导体有限公(gong)司参与招投标项目119次(ci),知识产(chan)权方面有商标信息6条,专利信息88条,此外企业(ye)还拥有行政(zheng)许可11个。
来源:金融(rong)界(jie)