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金(jin)融界2025年2月22日消息(xi)，国家知识产权局(ju)信(xin)息(xi)显示(shi)，西(xi)安龙飞电气技术有限公司申请一项名为“一种碳化硅(gui)MOSFET器件及其制备方法”的(de)专(zhuan)利，公开号CN 119497414 A，申请日期为2025年1月。

专(zhuan)利摘要显示(shi)，本发明提供一种碳化硅(gui)MOSFET器件及其制备方法，涉及半导体(ti)技术领(ling)域(yu)。包括(kuo)：源极金(jin)属(shu)、碳化硅(gui)结构(gou)、N‑型第二碳化硅(gui)外延层层间绝缘介质、第一P型掺杂区(qu)、第二P型掺杂区(qu)、第一N型掺杂区(qu)、N+型第一源区(qu)、第二N型掺杂区(qu)、P型体(ti)区(qu)、N+型第二源区(qu)；源极沟(gou)槽贯穿N‑型第二碳化硅(gui)外延层至第一P型掺杂区(qu)和第二P型掺杂区(qu)内，外侧(ce)被P型源区(qu)包围，内部有源极金(jin)属(shu)；栅极沟(gou)槽内有栅氧化层并淀积有多晶硅(gui)作为栅极，栅氧化层底部与周期性排列的(de)第一P型掺杂区(qu)、第一N型掺杂区(qu)和N+型第一源区(qu)接触，栅氧化层底部与周期性排列的(de)第二N型掺杂区(qu)接触。可(ke)保(bao)护栅氧化层，降低(di)拐角处栅氧化层的(de)电场(chang)强度和降低(di)碳化硅(gui)MOSFET器件的(de)导通电阻。

天(tian)眼查资料(liao)显示(shi)，西(xi)安龙飞电气技术有限公司，成立于2013年，位于西(xi)安市，是一家以从事电气机械和器材(cai)制造业为主的(de)企业。企业注册资本3000万(wan)人(ren)民币，实缴资本3000万(wan)人(ren)民币。通过天(tian)眼查大(da)数据分析，西(xi)安龙飞电气技术有限公司参与招投标项目24次，专(zhuan)利信(xin)息(xi)41条，此外企业还拥(yong)有行(xing)政许可(ke)17个。

来源：金(jin)融界