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金融界2025年2月22日消息，国家知(zhi)识(shi)产权局信息显示，中芯国际集(ji)成电路制造(北京)有限公司、中芯国际集(ji)成电路制造(上海)有限公司申(shen)请一项(xiang)名为“磁(ci)性随机存储单(dan)元的形成方(fang)法”的专利，公开(kai)号CN 119497394 A，申(shen)请日期为2023年8月。
专利摘要显示，一种磁(ci)性随机存储单(dan)元的形成方(fang)法，包括：提供衬底；在衬底上形成自由层结构，所述自由层结构包括一层或多(duo)层堆叠结构，所述堆叠结构包括：第一自由层和位于第一自由层内相互分立(li)的若(ruo)干第二自由层，所述第一自由层和第二自由层的材料不同，多(duo)层所述堆叠结构沿垂(chui)直于衬底表面的方(fang)向堆叠；在自由层结构上形成隧道层；在隧道层上形成固定层。所述磁(ci)性随机存储单(dan)元可作(zuo)为逻辑(ji)器件(jian)和存储器的基本单(dan)元，使得逻辑(ji)器件(jian)和存储器具(ju)有较低的功(gong)耗、较低的工作(zuo)电压以及高温(wen)可靠性。
天眼查资料显示，中芯国际集(ji)成电路制造(北京)有限公司，成立(li)于2002年，位于北京市(shi)，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本100000万美元，实缴资本100000万美元。通过天眼查大数据分析，中芯国际集(ji)成电路制造(北京)有限公司共对(dui)外投资了1家企业，参与招(zhao)投标项(xiang)目(mu)49次，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可225个。
来源：金融界