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金融界2025年2月22日消息(xi)，国家知识(shi)产(chan)权局信息(xi)显示，重(zhong)庆芯联微电子有限公司申请一项名为(wei)“半导体结构及其形成(cheng)方法”的专利，公开(kai)号 CN 119497419 A，申请日期为(wei)2024年11月。

专利摘要显示，本发明提供半导体结构及其形成(cheng)方法，半导体结构的形成(cheng)方法通过先执行第一刻蚀工艺，刻蚀输入输出器件(jian)区的硬掩模层和多晶硅层，以形成(cheng)第一沟槽；再执行第二刻蚀工艺，同(tong)时刻蚀核心器件(jian)区和输入输出器件(jian)区的硬掩模层、多晶硅层、第一栅极氧化层和第二栅极氧化层，形成(cheng)核心器件(jian)区的第一栅极结构和输入输出器件(jian)区的第二栅极结构，并使输入输出器件(jian)区的第二栅极结构间隙的第二栅极氧化层的厚(hou)度(du)与核心器件(jian)区的第一栅极结构间隙的第一栅极氧化层的厚(hou)度(du)相同(tong)。本发明提前刻蚀减薄输入输出器件(jian)区的多晶硅层厚(hou)度(du)，解决了输入输出器件(jian)区栅极结构间隙残留的氧化层因(yin)无法被侧墙(qiang)保护层所包(bao)覆，在后续工艺造成(cheng)栅级结构的缺陷问题(ti)。

天眼查(cha)资料显示，重(zhong)庆芯联微电子有限公司，成(cheng)立于2023年，位于重(zhong)庆市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设(she)备制造业(ye)为(wei)主的企(qi)业(ye)。企(qi)业(ye)注册资本870000万人民币，实缴资本522000万人民币。通过天眼查(cha)大数据分析，重(zhong)庆芯联微电子有限公司参与招投标项目645次(ci)，专利信息(xi)50条(tiao)，此外企(qi)业(ye)还拥有行政许可11个。

来源：金融界