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金融界2025年2月22日(ri)消息，国家知识产(chan)权局(ju)信息显示(shi)，英诺赛科(ke)（苏州）半导体有限公司申(shen)请一项名为“一种半导体器件(jian)以及制备方法”的专利，公开号 CN 119497417 A，申(shen)请日(ri)期为 2025年1月。

专利摘要(yao)显示(shi)，本发明公开了一种半导体器件(jian)以及制备方法。该半导体器件(jian)包括：衬底和沟道层；复合势(shi)垒层，包括第一势(shi)垒层和第二势(shi)垒层；第二势(shi)垒层依次包括第一子层、第二子层和第三子层；第一子层为未(wei)掺杂势(shi)垒层，第二子层为第一导电类(lei)型势(shi)垒层，第三子层为未(wei)掺杂势(shi)垒层；第二势(shi)垒层设置(zhi)有第一凹槽，第一凹槽贯穿第二势(shi)垒层；应力释放层，位于第三子层远离第二子层的一侧(ce)，应力释放层设置(zhi)有第二凹槽；掺杂的Ⅲ‑Ⅴ族半导体层位于第一凹槽和第二凹槽内；栅极，包括第一部分和第二部分，第一部分位于第二凹槽内，第二部分突(tu)出于应力释放层远离第三子层的一侧(ce)。上述(shu)技术方案(an)避(bi)免了半导体器件(jian)内部的半导体膜(mo)层出现(xian)刻蚀损伤，提(ti)升了半导体器件(jian)的电学性能。

天眼查资(zi)料显示(shi)，英诺赛科(ke)（苏州）半导体有限公司，成立于2017年，位于苏州市，是一家以从事计算(suan)机、通信和其他电子设备制造业为主的企(qi)业。企(qi)业注册(ce)资(zi)本370000万人民币(bi)，实缴(jiao)资(zi)本320000万人民币(bi)。通过天眼查大数据分析，英诺赛科(ke)（苏州）半导体有限公司参与(yu)招投标项目41次，知识产(chan)权方面有商标信息4条，专利信息222条，此外企(qi)业还拥有行(xing)政许可51个。

来源：金融界