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金(jin)融界2025年2月22日消息,国(guo)家知识(shi)产权局信息显示,中微(wei)半导体设备(上海)股份有限公司申请一项名(ming)为“半导体结构的处理方法、半导体结构及(ji)半导体处理装置”的专利(li),公开号(hao) CN 119497382 A,申请日期为2023年8月。
专利(li)摘要显示,本(ben)发明公开了一种半导体结构的处理方法、半导体结构及(ji)半导体处理装置。处理方法包括:提供(gong)一基片,包括设置在(zai)衬底上的基底层,其具有侧部自顶部表面朝向衬底方向逐渐向外延伸形成的坡度结构,坡度结构上覆盖(gai)有截止(zhi)层,截止(zhi)层上设有电介质层;开启源射频(pin)、偏(pian)置射频(pin),通入(ru)第一刻蚀气体,刻蚀电介质层,直到(dao)第三类孔暴(bao)露(lu)出截止(zhi)层;降低偏(pian)置射频(pin)的功率,使第一类孔、第二类孔和第三类孔的开口(kou)发生侧向刻蚀;通入(ru)第二刻蚀气体,对第三类孔暴(bao)露(lu)的截止(zhi)层进行刻蚀,第二刻蚀气体的流量(liang)随刻蚀时间以斜率 k 线性提高,直到(dao)将第三类孔的截止(zhi)层刻蚀到(dao)预设深度。本(ben)发明通过对不同深度不同深宽比的通孔中截止(zhi)层余量(liang)地(di)控制,扩大了后续打击截止(zhi)层制程的工艺窗口(kou)。
天眼查(cha)资料显示,中微(wei)半导体设备(上海)股份有限公司,成立(li)于(yu)2004年,位于(yu)上海市(shi),是一家以从事计算(suan)机、通信和其他(ta)电子设备制造业为主的企业。企业注册(ce)资本(ben)62236.3735万(wan)人民币,实缴(jiao)资本(ben)61927.9423万(wan)人民币。通过天眼查(cha)大数据分析,中微(wei)半导体设备(上海)股份有限公司共对外投资了27家企业,参与招投标项目65次(ci),知识(shi)产权方面有商标信息72条,专利(li)信息1454条,此外企业还(hai)拥有行政许可71个。
来源:金(jin)融界