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金融界2025年(nian)2月22日消息，国家知识产权局信息显示，武汉新芯集成(cheng)电路股份有限公司(si)申请一项名为“一种存储器单元及存储器件”的专利，公开号CN 119497365 A，申请日期为2024年(nian)11月。

专利摘要显示，本(ben)申请公开了一种存储器单元及存储器件，存储器单元包括：半导体基体、栅极结构、沟槽电容结构和源/漏区，半导体基体中形成(cheng)有沟槽；栅极结构形成(cheng)在半导体基体上；沟槽电容结构形成(cheng)在栅极结构一侧的沟槽中；源/漏区形成(cheng)在栅极结构两侧的半导体基体中；其中，栅极结构、沟槽电容结构和远离沟槽电容结构的源/漏区相互耦接。即(ji)本(ben)申请中，在栅极结构一侧的半导体基体中形成(cheng)沟槽电容结构，且栅极结构、沟槽电容结构和源/漏区耦接在一起(qi)，能(neng)有效(xiao)增强存储器件的讯号保存能(neng)力，以及放大存储节点输出电平，进(jin)而提升对位(wei)元线的充电能(neng)力，并降低讯号放大电路的设计难(nan)度(du)，进(jin)而提升后续产品的性能(neng)。

天眼查资料显示，武汉新芯集成(cheng)电路股份有限公司(si)，成(cheng)立(li)于(yu)2006年(nian)，位(wei)于(yu)武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备(bei)制造业为主的企业。企业注册资本(ben)847900.6412万人民币，实缴资本(ben)578214.4726万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉新芯集成(cheng)电路股份有限公司(si)共对外(wai)投资了2家企业，参与招投标项目(mu)213次，知识产权方面(mian)有商标信息66条，专利信息1693条，此(ci)外(wai)企业还(hai)拥有行(xing)政许可105个。

来源：金融界