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金融界(jie)2025年2月(yue)22日消息，国家知识产权局(ju)信息显示，英诺(nuo)赛(sai)科（苏州）半导体有限公司申请一项名为“一种半导体器件以(yi)及(ji)制(zhi)备方法”的专利(li)，公开号 CN 119497417 A，申请日期为 2025年1月(yue)。

专利(li)摘要显示，本发明公开了一种半导体器件以(yi)及(ji)制(zhi)备方法。该半导体器件包括：衬底和沟道层；复合势垒层，包括第一势垒层和第二势垒层；第二势垒层依次包括第一子层、第二子层和第三(san)子层；第一子层为未掺杂(za)势垒层，第二子层为第一导电(dian)类型(xing)势垒层，第三(san)子层为未掺杂(za)势垒层；第二势垒层设置有第一凹槽，第一凹槽贯穿第二势垒层；应(ying)力释(shi)放层，位于(yu)第三(san)子层远离第二子层的一侧，应(ying)力释(shi)放层设置有第二凹槽；掺杂(za)的Ⅲ‑Ⅴ族半导体层位于(yu)第一凹槽和第二凹槽内；栅极，包括第一部分和第二部分，第一部分位于(yu)第二凹槽内，第二部分突出于(yu)应(ying)力释(shi)放层远离第三(san)子层的一侧。上述技术方案避(bi)免了半导体器件内部的半导体膜层出现刻蚀(shi)损伤，提升了半导体器件的电(dian)学性能。

天眼(yan)查(cha)资料(liao)显示，英诺(nuo)赛(sai)科（苏州）半导体有限公司，成立于(yu)2017年，位于(yu)苏州市，是一家以(yi)从事计算机、通信和其(qi)他(ta)电(dian)子设备制(zhi)造业为主的企业。企业注册资本370000万人民币，实缴资本320000万人民币。通过天眼(yan)查(cha)大数据分析，英诺(nuo)赛(sai)科（苏州）半导体有限公司参与招投(tou)标项目41次，知识产权方面有商标信息4条，专利(li)信息222条，此外企业还拥有行政许可51个。

来源：金融界(jie)