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金融(rong)界2025年2月22日消息，国家知识产权局信息显示，中微半导体设备（上海(hai)）股份有限公司申请一项名为“半导体结构的(de)处理方法、半导体结构及半导体处理装(zhuang)置(zhi)”的(de)专利，公开号 CN 119497382 A，申请日期为2023年8月。

专利摘要(yao)显示，本发明公开了一种(zhong)半导体结构的(de)处理方法、半导体结构及半导体处理装(zhuang)置(zhi)。处理方法包括：提供一基片，包括设置(zhi)在衬底上的(de)基底层，其具(ju)有侧部自顶部表(biao)面朝向衬底方向逐渐向外延伸形成的(de)坡度结构，坡度结构上覆盖有截止层，截止层上设有电(dian)介质层；开启源(yuan)射频、偏置(zhi)射频，通入第一刻蚀气体，刻蚀电(dian)介质层，直到第三类孔(kong)暴露(lu)出截止层；降低偏置(zhi)射频的(de)功率，使第一类孔(kong)、第二类孔(kong)和第三类孔(kong)的(de)开口发生侧向刻蚀；通入第二刻蚀气体，对第三类孔(kong)暴露(lu)的(de)截止层进行刻蚀，第二刻蚀气体的(de)流量随刻蚀时间以斜率 k 线性提高，直到将第三类孔(kong)的(de)截止层刻蚀到预设深度。本发明通过对不同深度不同深宽比的(de)通孔(kong)中截止层余量地控制，扩大了后续打击截止层制程的(de)工艺窗(chuang)口。

天眼查资料显示，中微半导体设备（上海(hai)）股份有限公司，成立于(yu)2004年，位于(yu)上海(hai)市，是一家以从事(shi)计(ji)算机、通信和其他电(dian)子设备制造业为主的(de)企业。企业注册资本62236.3735万人民币，实缴(jiao)资本61927.9423万人民币。通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海(hai)）股份有限公司共对外投资了27家企业，参与(yu)招投标项目65次，知识产权方面有商(shang)标信息72条，专利信息1454条，此外企业还拥有行政许可71个(ge)。

来源(yuan)：金融(rong)界