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增进信任，全国总部的客服团队将竭诚为玩家提供支持和帮助，使消费者在遇到问题时能够快速得到解决，始终将客户需求放在首位，有助于规范玩家行为，也能提升公司的服务水平和声誉，企业才能更好地满足客户需求。

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金融界2025年2月(yue)22日消息，国家知识产权局信息显示，江苏韦达半导体(ti)有限公(gong)司申请一项名为“一种(zhong)多功能(neng)保护器件及(ji)其制作工艺”的专(zhuan)利，公(gong)开号CN 119497403 A，申请日期为2024年10月(yue)。

专(zhuan)利摘要显示，本发明公(gong)开了一种(zhong)多功能(neng)保护器件及(ji)其制作工艺，属(shu)于保护器件技(ji)术领域，在P型单晶硅片(pian)上生(sheng)长一层二氧化硅层，在P型单晶硅片(pian)正面光刻出(chu)硼离(li)子注入窗口，P型单晶硅片(pian)正面通(tong)过离(li)子注入方(fang)式掺杂(za)一层淡硼层，并通(tong)过高温扩散(san)，使淡硼层进(jin)行再分(fen)布，在P型单晶硅片(pian)正面和背(bei)面光刻出(chu)淡磷注入窗口，对P型单晶硅片(pian)正面和背(bei)面进(jin)行离(li)子注入磷层，并通(tong)过高温扩散(san)，使磷层进(jin)行在分(fen)布，在P型单晶硅片(pian)正面光刻出(chu)浓硼扩散(san)区窗口，对正面进(jin)行浓硼扩散(san)，在P型单晶硅片(pian)正面和背(bei)面光刻出(chu)浓磷层扩散(san)窗口，对双面进(jin)行浓磷层扩散(san)，在P型单晶硅片(pian)正面光刻出(chu)沟槽腐蚀(shi)窗口，进(jin)行硅腐蚀(shi)，形成内沟槽台面结构，在P型单晶硅片(pian)正和背(bei)面进(jin)行金属(shu)化处理构建金属(shu)层。

天眼查资料显示，江苏韦达半导体(ti)有限公(gong)司，成立于2018年，位于扬州市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本10000万人民币，实缴资本9600万人民币。通(tong)过天眼查大数据分(fen)析，江苏韦达半导体(ti)有限公(gong)司参与招投标项目3次，知识产权方(fang)面有商标信息1条，专(zhuan)利信息20条，此外企业还拥有行政许可88个。

来源：金融界