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金融界2025年2月22日消息，国家知识产权(quan)局信息显示，中芯(xin)国际集成电(dian)路制造（上海）有限公司申请一项名为“半导体结构(gou)及其形成方法”的专利，公开号CN 119497362 A，申请日期为2023年8月。
专利摘(zhai)要显示，一种半导体结构(gou)及其形成方法，结构(gou)包括(kuo)：第一栅极结构(gou)、第一沟道层以及第一源漏极构(gou)成下(xia)拉晶(jing)体管，第一栅极结构(gou)、第二沟道层以及第二源漏极构(gou)成上拉晶(jing)体管；栅极插塞，位于第一栅极结构(gou)的顶部，且栅极插塞与第一栅极结构(gou)电(dian)连接；介电(dian)层，位于基底顶部，且覆盖下(xia)拉晶(jing)体管、上拉晶(jing)体管以及栅极插塞；金属层，位于介电(dian)层的顶部；凹槽，贯(guan)穿金属层、介电(dian)层以及部分厚度的栅极插塞第三沟道层覆盖凹槽的底部和侧壁第二栅极结构(gou)，位于凹槽的剩余空间中，环绕第二栅极结构(gou)的栅极插塞用于作(zuo)为第三源漏极，环绕第二栅极结构(gou)的金属层用于作(zuo)为第四源漏极，第二栅极结构(gou)、第三沟道层、第三源漏极和第四源漏极构(gou)成传输门晶(jing)体管。提高半导体结构(gou)的集成度。
天眼查(cha)资料显示，中芯(xin)国际集成电(dian)路制造（上海）有限公司，成立于2000年，位于上海市，是一家以从事(shi)计算机、通信和其他电(dian)子设备制造业为主的企(qi)业。企(qi)业注册资本(ben)244000万美元，实缴资本(ben)244000万美元。通过天眼查(cha)大数据分析，中芯(xin)国际集成电(dian)路制造（上海）有限公司共对外投资了4家企(qi)业，参(can)与招投标项目120次，知识产权(quan)方面有商(shang)标信息146条，专利信息5000条，此外企(qi)业还拥有行政(zheng)许可442个(ge)。
来源：金融界