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金融界2025年2月22日消息(xi)，国家知识产(chan)权局信息(xi)显(xian)示，英诺赛科（苏州(zhou)）半导体有限公司申请一(yi)项名为“一(yi)种半导体器件以及制备方法”的专利，公开号 CN 119497417 A，申请日期为 2025年1月。

专利摘(zhai)要显(xian)示，本发(fa)明公开了一(yi)种半导体器件以及制备方法。该半导体器件包括：衬底和(he)沟道层；复合势垒层，包括第一(yi)势垒层和(he)第二势垒层；第二势垒层依次包括第一(yi)子层、第二子层和(he)第三子层；第一(yi)子层为未(wei)掺杂势垒层，第二子层为第一(yi)导电类型(xing)势垒层，第三子层为未(wei)掺杂势垒层；第二势垒层设置(zhi)有第一(yi)凹槽，第一(yi)凹槽贯穿第二势垒层；应力释放层，位于第三子层远离第二子层的一(yi)侧，应力释放层设置(zhi)有第二凹槽；掺杂的Ⅲ‑Ⅴ族半导体层位于第一(yi)凹槽和(he)第二凹槽内；栅(shan)极，包括第一(yi)部分和(he)第二部分，第一(yi)部分位于第二凹槽内，第二部分突(tu)出于应力释放层远离第三子层的一(yi)侧。上述技术方案避免了半导体器件内部的半导体膜层出现刻蚀损伤(shang)，提升(sheng)了半导体器件的电学性能。

天眼查(cha)资料显(xian)示，英诺赛科（苏州(zhou)）半导体有限公司，成立于2017年，位于苏州(zhou)市，是一(yi)家以从事计算机(ji)、通(tong)信和(he)其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本370000万人民币，实缴资本320000万人民币。通(tong)过(guo)天眼查(cha)大数据分析，英诺赛科（苏州(zhou)）半导体有限公司参与招投标项目(mu)41次，知识产(chan)权方面有商标信息(xi)4条，专利信息(xi)222条，此外企业还拥有行政许可51个。

来源：金融界