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【环球时报驻韩国(guo)特派记者 莽九晨】据韩联(lian)社23日报道，韩国(guo)科技评估与规划研究院当天发布(bu)的(de)调查报告显示(shi)，韩国(guo)绝大多数半导体技术已被中国(guo)赶超。

该研究院针对39名韩国(guo)专家进行问卷调查的(de)结果显示(shi)，截(jie)至去年，韩国(guo)所有半导体领域的(de)基础力量均(jun)落后于中国(guo)。若将技术最先进国(guo)家的(de)水平设为100%，韩国(guo)在高集成度(du)、低阻(zu)抗(kang)存储(chu)芯(xin)片技术领域为90.9%，低于中国(guo)（94.1%）；在高性能(neng)、低功耗的(de)人工(gong)智能(neng)（AI）芯(xin)片领域，韩国(guo)（84.1%）不及中国(guo)（88.3%）。在功率(lu)半导体方面，韩国(guo)为67.5%，中国(guo)高达79.8%；在新一代高性能(neng)传感技术方面，韩中两国(guo)分(fen)别为81.3%和83.9%；半导体先进封装技术方面，两国(guo)均(jun)为74.2%。

据报道，在针对半导体领域整体技术生命周期(qi)的(de)问卷调查中，韩国(guo)在工(gong)艺和量产方面领先于中国(guo)，但在技术、原(yuan)创及设计领域落后于中国(guo)。而从(cong)商业化(hua)角(jiao)度(du)来看，韩国(guo)仅在高集成度(du)、低阻(zu)抗(kang)存储(chu)芯(xin)片和先进封装方面领先中国(guo)。值得(de)关注的(de)是，参与此次调查的(de)专家在2022年认为韩国(guo)在高集成度(du)、低阻(zu)抗(kang)存储(chu)芯(xin)片、先进封装以及新一代高性能(neng)传感技术等方面均(jun)领先中国(guo)，但仅两年就(jiu)改变了看法。

专家们认为，韩国(guo)半导体技术水平未来面临(lin)的(de)问题主要有核心(xin)人才流失、AI芯(xin)片技术、中美竞争、本国(guo)优先政策、供(gong)应链本地化(hua)等，其中只有AI芯(xin)片技术可能(neng)对韩国(guo)的(de)技术水平产生积极影响。

韩国(guo)《首尔经济》23日注意到(dao)，中国(guo)在美国(guo)施加的(de)巨大压力下仍取得(de)了这样的(de)成果。韩国(guo)YTN电视台评论称，推动“半导体崛起”的(de)中国(guo)在10年间持续进行国(guo)家层面的(de)大规模(mo)投资，相关成果逐渐显现。“尤其令人担忧的(de)是”，韩企在具有优势的(de)存储(chu)器领域和战略价值较(jiao)高的(de)传感器领域，时隔两年被中国(guo)反(fan)超。韩国(guo)半导体产业协(xie)会专务理事安基铉(xuan)（音）表(biao)示(shi)，中国(guo)投入相当多的(de)研究开发费用支持学校或研究机构，以确保人才和原(yuan)创技术，形成了整个产业的(de)基础。