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金融界2025年2月(yue)22日消息，国家知识产权局(ju)信息显示，英诺赛科（苏州）半导体有(you)限(xian)公司(si)申请一项名为(wei)“一种半导体器件(jian)以(yi)及制备方法”的专利，公开号 CN 119497417 A，申请日期为(wei) 2025年1月(yue)。

专利摘(zhai)要显示，本发明公开了一种半导体器件(jian)以(yi)及制备方法。该半导体器件(jian)包括：衬底和沟道层；复合势垒层，包括第一势垒层和第二势垒层；第二势垒层依次包括第一子层、第二子层和第三子层；第一子层为(wei)未(wei)掺杂(za)势垒层，第二子层为(wei)第一导电类型势垒层，第三子层为(wei)未(wei)掺杂(za)势垒层；第二势垒层设置有(you)第一凹(ao)槽，第一凹(ao)槽贯穿(chuan)第二势垒层；应力释(shi)放(fang)层，位于第三子层远离第二子层的一侧，应力释(shi)放(fang)层设置有(you)第二凹(ao)槽；掺杂(za)的Ⅲ‑Ⅴ族半导体层位于第一凹(ao)槽和第二凹(ao)槽内；栅极，包括第一部分和第二部分，第一部分位于第二凹(ao)槽内，第二部分突出于应力释(shi)放(fang)层远离第三子层的一侧。上述技术方案避(bi)免了半导体器件(jian)内部的半导体膜(mo)层出现刻蚀损伤，提(ti)升了半导体器件(jian)的电学性能。

天眼查资料显示，英诺赛科（苏州）半导体有(you)限(xian)公司(si)，成立于2017年，位于苏州市，是一家以(yi)从事计(ji)算机(ji)、通(tong)信和其他(ta)电子设备制造业为(wei)主的企业。企业注册资本370000万(wan)人民币，实缴资本320000万(wan)人民币。通(tong)过天眼查大数据分析(xi)，英诺赛科（苏州）半导体有(you)限(xian)公司(si)参与招投标项目41次，知识产权方面有(you)商标信息4条，专利信息222条，此外(wai)企业还拥有(you)行政许(xu)可51个。

来源(yuan)：金融界