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金融界(jie)2025年2月22日消息，国家知识产权局信息显示，钰创科技股份(fen)有限公司(si)申请一项名为“存储单元(yuan)结构”的专利，公开号CN 119497379 A，申请日期为2021年6月。

专利摘要显示，本发明(ming)公开了(le)一种存储单元(yuan)结构。所述存储单元(yuan)结构包含一硅(gui)基板，一晶体(ti)管，和一电容。所述硅(gui)基板具(ju)有一硅(gui)表面。所述晶体(ti)管耦接所述硅(gui)表面，其中(zhong)所述晶体(ti)管包含栅极(ji)结构、第导通区以及第二导通区。所述电容具(ju)有一存储电极(ji)，其中(zhong)所述电容位在所述晶体(ti)管上方以及所述存储电极(ji)电耦接所述晶体(ti)管的第二导通区。所述电容包含一电容周(zhou)边，以及所述晶体(ti)管是位在所述电容周(zhou)边之内。因此，相较于(yu)现有技术所述存储单元(yuan)结构具(ju)有更致密的结构，较小的面积，较低的漏(lou)电流，较高的电容值等优点。

来源：金融界(jie)