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【环球时报驻(zhu)韩国特派记者 莽九晨】据韩联社(she)23日报道，韩国科技评估与规划研究院(yuan)当(dang)天发(fa)布的调(diao)查报告显示，韩国绝大多(duo)数半导(dao)体技术已被中国赶超(chao)。
该(gai)研究院(yuan)针对39名(ming)韩国专家进(jin)行问卷调(diao)查的结果显示，截(jie)至去年，韩国所有半导(dao)体领(ling)域的基础力量均落后于中国。若将(jiang)技术最先进(jin)国家的水平设(she)为(wei)100%，韩国在(zai)高集成度、低(di)阻抗存储芯片(pian)技术领(ling)域为(wei)90.9%，低(di)于中国（94.1%）；在(zai)高性能、低(di)功耗的人工智能（AI）芯片(pian)领(ling)域，韩国（84.1%）不及中国（88.3%）。在(zai)功率半导(dao)体方面，韩国为(wei)67.5%，中国高达(da)79.8%；在(zai)新一(yi)代高性能传感技术方面，韩中两国分别为(wei)81.3%和83.9%；半导(dao)体先进(jin)封装技术方面，两国均为(wei)74.2%。
据报道，在(zai)针对半导(dao)体领(ling)域整体技术生命周期(qi)的问卷调(diao)查中，韩国在(zai)工艺和量产方面领(ling)先于中国，但在(zai)技术、原创及设(she)计领(ling)域落后于中国。而从商(shang)业化角(jiao)度来看，韩国仅在(zai)高集成度、低(di)阻抗存储芯片(pian)和先进(jin)封装方面领(ling)先中国。值(zhi)得关注的是，参与此次调(diao)查的专家在(zai)2022年认为(wei)韩国在(zai)高集成度、低(di)阻抗存储芯片(pian)、先进(jin)封装以及新一(yi)代高性能传感技术等方面均领(ling)先中国，但仅两年就改变了看法。
专家们(men)认为(wei)，韩国半导(dao)体技术水平未来面临的问题主(zhu)要有核(he)心(xin)人才流失、AI芯片(pian)技术、中美竞争、本国优先政策、供应链本地化等，其中只有AI芯片(pian)技术可能对韩国的技术水平产生积(ji)极影响。
韩国《首尔经济》23日注意到，中国在(zai)美国施加的巨(ju)大压(ya)力下仍取得了这样的成果。韩国YTN电(dian)视台评论称，推动“半导(dao)体崛起(qi)”的中国在(zai)10年间(jian)持续进(jin)行国家层面的大规模投(tou)资，相关成果逐(zhu)渐(jian)显现。“尤其令(ling)人担忧的是”，韩企在(zai)具有优势的存储器领(ling)域和战略(lue)价值(zhi)较高的传感器领(ling)域，时隔两年被中国反超(chao)。韩国半导(dao)体产业协会(hui)专务理(li)事安基铉（音(yin)）表示，中国投(tou)入相当(dang)多(duo)的研究开发(fa)费用支持学校或研究机构，以确保(bao)人才和原创技术，形成了整个产业的基础。