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据韩联社23日报道，韩国科技(ji)评估与规划研究院（KISTEP）当天(tian)发布的(de)一份调查报告显示(shi)，韩国绝大(da)多数的(de)半(ban)导体(ti)技(ji)术已经被中国赶超。

报道称，KISTEP针对39名(ming)韩国国内(nei)专(zhuan)家实施问卷调查的(de)结果显示(shi)，截至去年，韩国所有半(ban)导体(ti)领域(yu)的(de)基础力量均落后于中国。若将技(ji)术最先进国家的(de)水平设(she)为100%，韩国在(zai)高集成度、低阻抗(kang)存储芯片技(ji)术领域(yu)成就为90.9%，低于中国（94.1%），位居第二；在(zai)高性能、低功耗的(de)人工智能芯片领域(yu)，韩国（84.1%）仍不(bu)及中国（88.3%）。

报道称，在(zai)功率半(ban)导体(ti)方面，韩国为67.5%，中国高达79.8%；新一代高性能传感技(ji)术方面，韩中两国分别为81.3%和(he)83.9%；半(ban)导体(ti)先进封装技(ji)术方面，两国均为74.2%。 报道提到，站在(zai)商业化的(de)角度来看(kan)，韩国仅在(zai)高集成度、低阻抗(kang)存储芯片和(he)先进封装技(ji)术方面领先于中国。值得关注(zhu)的(de)是，参与此次调查的(de)专(zhuan)家曾在(zai)2022年时认为韩国在(zai)高集成度、低阻抗(kang)存储芯片、先进封装、新一代高性能传感技(ji)术等方面均领先中国，但仅两年就改变了看(kan)法。

韩联社援引(yin)调查报告结果称，韩国虽在(zai)制造工艺和(he)量产方面领先中国，但在(zai)基础技(ji)术和(he)设(she)计领域(yu)落后。日本和(he)中国的(de)崛起、美(mei)国的(de)制裁、东南亚市场增长等因素给产业带来了不(bu)确定性。（环球网）

来源：环球时报