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金融界(jie)2025年2月(yue)22日消(xiao)息，国家知(zhi)识产权局信息显示，中芯国际集成(cheng)电(dian)路(lu)制造（上海）有限(xian)公司申请一项名为“半导体(ti)结构及其形成(cheng)方法”的(de)专利，公开号CN 119497362 A，申请日期为2023年8月(yue)。

专利摘要显示，一种(zhong)半导体(ti)结构及其形成(cheng)方法，结构包括：第一栅(shan)极结构、第一沟(gou)道层(ceng)以及第一源漏(lou)极构成(cheng)下拉晶体(ti)管，第一栅(shan)极结构、第二沟(gou)道层(ceng)以及第二源漏(lou)极构成(cheng)上拉晶体(ti)管；栅(shan)极插(cha)塞，位于第一栅(shan)极结构的(de)顶部，且栅(shan)极插(cha)塞与第一栅(shan)极结构电(dian)连接；介电(dian)层(ceng)，位于基底顶部，且覆盖下拉晶体(ti)管、上拉晶体(ti)管以及栅(shan)极插(cha)塞；金属层(ceng)，位于介电(dian)层(ceng)的(de)顶部；凹槽，贯(guan)穿金属层(ceng)、介电(dian)层(ceng)以及部分厚(hou)度(du)的(de)栅(shan)极插(cha)塞第三沟(gou)道层(ceng)覆盖凹槽的(de)底部和侧壁第二栅(shan)极结构，位于凹槽的(de)剩(sheng)余空间中，环绕第二栅(shan)极结构的(de)栅(shan)极插(cha)塞用于作为第三源漏(lou)极，环绕第二栅(shan)极结构的(de)金属层(ceng)用于作为第四源漏(lou)极，第二栅(shan)极结构、第三沟(gou)道层(ceng)、第三源漏(lou)极和第四源漏(lou)极构成(cheng)传输门晶体(ti)管。提高半导体(ti)结构的(de)集成(cheng)度(du)。

天眼查资料(liao)显示，中芯国际集成(cheng)电(dian)路(lu)制造（上海）有限(xian)公司，成(cheng)立(li)于2000年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电(dian)子设备制造业为主的(de)企业。企业注册资本244000万美元，实缴资本244000万美元。通过天眼查大数据分析，中芯国际集成(cheng)电(dian)路(lu)制造（上海）有限(xian)公司共(gong)对外投资了(le)4家企业，参与招投标(biao)项目120次，知(zhi)识产权方面有商标(biao)信息146条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政(zheng)许可442个。

来源：金融界(jie)